植入微種植體的一個重要因素就是該區(qū)域是否有充足的骨量。而生物力學的應用又決定了其植入的位置。頰棚區(qū)是下頜正畸種植支抗釘常用的位置。除了其他的一些優(yōu)勢，頰棚區(qū)的支抗釘特別適用于矯治III類錯合畸形。但是，對于植入該區(qū)域的具體位置仍有爭議，諸如：靠近第一磨牙；第一、二磨牙之間；靠近第二磨牙。本研究的目的是通過評估需植入支抗釘區(qū)域皮質骨的厚度，下頜頰棚區(qū)估量的寬度，及微螺釘與下牙槽神經（該部位唯一敏感的解剖結構）的關系。
材料和方法
本研究納入30個未經正畸治療患者的CBCT片（18個女孩；12個男孩，年齡為14.5±2歲）。均為正畸初始記錄，而非特意為此研究攝片。納入標準：正畸訴求白人患者；完整的恒牙列，且第二磨牙完全萌出；沒有頜面部其他病變或發(fā)育畸形。所有照片均由Dolphin 3D進行分析。
經過合適的定位，在CBCT上評估3個位點：下頜第一磨牙遠中頰尖的頰側（6D）；下頜第二磨牙近中頰尖的頰側（7M）；下頜第二磨牙遠中頰尖的頰側（7D）。骨皮質厚度定義為從頰部骨緣中點到下頜第一、二磨牙之間（頰棚區(qū)），平行于第一或第二磨牙牙根的頰側外形。（圖1）
頰棚區(qū)骨厚度定義為從最頰側牙槽骨到下頜磨牙根防離釉質牙骨質界4mm和8mm的部位，平行于合平面。此外，在同樣的三個位置進行測量：下頜第一磨牙遠中頰尖的頰側（6D4，6D8）；下頜第二磨牙近中頰尖的頰側（7M4，7M8）；下頜第二磨牙遠中頰尖的頰側（7D4，7D8）。（圖2）
下牙槽神經管通過軟件電子示蹤。（圖3）
將患者的掃描模型疊加在CBCT體積上以虛擬創(chuàng)建軟組織輪廓。（圖4）
微螺釘（直徑為1.6mm×10mm長）可視化置入制定位點，膜齦聯(lián)合處。植入時，與合平面垂直；植入后，螺紋頭有5mm高于軟組織水平。（圖5）
同樣，需要在三個位點（D6，M7，D7）測量微螺釘植入深度及其與電子示蹤的神經管關系。（圖6）
數據分析
應用SPSS 17.0進行數據分析，P≤0.05。效能計算表明至少需要24個樣本。初步數據用w檢驗呈正態(tài)分布。數據都進行二次測量，相隔兩個月，每次從10個CBCT中取10個截面。組內相關性可。方差分析位點和骨皮質厚度，頰棚區(qū)寬度，植入量和植體與下牙槽神經距離的影響。
結果
頰棚區(qū)寬度在下頜第一磨牙遠頰尖處且離CEJ為4mm時最?。?D4; 3.48±1.29mm），在下頜第二磨牙遠頰尖且離CEJ為8mm時最厚（7D8; 8.13±1.97mm）。（表1）
骨皮質厚度在6D最薄(2.0±0.71 mm) ，在7D處最厚(3.96±0.57 mm) 。（圖2）
當比較3個部位的皮質骨厚度時，顯示出顯著的統(tǒng)計學差異（表3和表4）。發(fā)現(xiàn)植入深度在6D（4.98±0.84 mm）處最低，在7D處（8.40 ±1.23 mm）最大。在后一位置，螺釘與神經最近（5.46±1.63mm）。統(tǒng)計分析表明，測量位點和骨皮質厚度有顯著影響。此外，這些部位對植入深度以及從種植體根端到下牙槽神經的距離具有顯著影響。
討論
皮質骨厚度是獲得微螺釘的足夠主要穩(wěn)定性的重要因素，它與放置扭矩直接相關，從而影響成功率。皮質骨過薄的區(qū)域不能提供足夠的主要穩(wěn)定性以獲得最大的成功，顯示早期失敗率增加。皮質骨過厚的地方，雖然提供了極好的初期穩(wěn)定性，但會導致骨骼的過度壓縮，這可能導致微螺釘后期失敗率增加。在后一種情況下，通常建議預先鉆孔助攻。
理解種植體部存在于骨質中的長度可以更好地理解其發(fā)揮生物力學作用的機制。我們將植體的設計做了一定的改進，在頭部和體部加了一段長2mm螺紋，這樣可以使其最終高度接近于弓絲，以發(fā)揮文獻中推薦的最佳植體長度。應用本研究標準植入頰棚區(qū)的植體。（圖7）
本文建議的最適植入部位較靠后，在張口度較小的病人中，需要使用反角植入設備。
結論
頰棚區(qū)是白種人患者植入種植支抗的合適位置。
在本研究的范圍內，考慮骨皮質厚度、頰棚區(qū)寬度和植入深度，在本研究人群中最適宜的部位是頰側靠近第二磨牙區(qū)域。
第一磨牙頰側部位的植入需要3D影像或者至少電子觸診來明確患者是否有足夠骨量，對于大部分白人病人來說，此部位并不合適。
來源：浙一口腔正畸林軍
